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| 專利名稱(中) | 電感式電漿蝕刻設備及其回授控制方法 |
| 專利家族 |
中華民國：I298909 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 柳克強,蕭凱木,張正宏,林強 |
| 技術領域 | 電子電機 |
 專利摘要(中) |
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| 一種電感式電漿蝕刻設備及其回授控制方法,係將一電壓/電流測量裝置連接於蝕刻設備中之一晶圓座,以量測此晶圓座之射頻電流、偏壓及二者間之相角,並利用所量得之射頻電流、偏壓及二者間之相角計算出一離子電流及一射頻偏壓,最後,利用所得之離子電流與射頻偏壓回授控制射頻功率產生器,以使反應腔中達到預設之電漿狀態。 |
| 專利摘要(英) |
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| 自行申請補件 |
 聯絡資訊 |
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|---|---|
| 承辦人姓名 | 楊美茹 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #62305 |
| 承辦人Email | mjyang2@mx.nthu.edu.tw |
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