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| 專利名稱(中) | 高熵合金鍍膜方法 |
| 專利家族 |
中華民國：I272316 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 葉均蔚 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
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| 本發明係關於一種高熵合金鍍膜方法，其特徵在於採用一種以上的高熵合金靶材，在鍍膜腔體中利用物理鍍膜法或輔以反應性氣體使基材表面鍍覆多種元素成分的材料薄膜。該高嫡合金靶材為含有5至11種主要金屬元素，且每一種主要金屬元素之莫耳數與該合金的總莫耳數比係介於5％至35％之間。靶材可由熔解鑄造法、鍛造法或粉末冶金法製得。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 蔡昀臻 |
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