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| 專利名稱(中) | 將光陽極的光敏染料含浸於一導電基材的方法 |
| 專利家族 |
中華民國：I406424 美國：8,252,620 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 林義翔,楊傑銘,談駿嵩 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
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| 本發明提出一種壓力擺盪含浸法來製備染料敏化太陽能電池(dye-sensitized solar cell,DSSC)的光陽極。本發明的方法包括將一導電基材的金屬氧化物層浸入於一位於高壓釜內的光敏染料的溶液內；將一惰性氣體導入該高壓釜內並且維持在一第一壓力一段時間，其中該第一壓力低於該惰性氣體的臨界壓力，且該溶液為該惰性氣體所膨脹；及以該惰性氣體進一步加壓該高壓釜並且維持在一第二壓力一段時間，其中該第二壓力高於第一壓力，且使該惰性氣體轉變成近臨界或超臨界流體而進一步溶入於該溶液，於是光敏染料因為反溶劑效應而進一步沉積於該金屬氧化物層內。 |
 聯絡資訊 |
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|---|---|
| 承辦人姓名 | 周家鳳 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #34576 |
| 承辦人Email | cf.chou@mx.nthu.edu.tw |
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