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| 專利名稱(中) | 具有極低折射率的抗反射構造及含有此構造的裝置 |
| 專利名稱(英) | Antireflection structures with an exceptional low refractive index and devices containing the same |
| 專利家族 |
中華民國：I425058 美國：8,518,561 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100.00% |
| 發明人 | 果尚志,陳虹穎,佘銘軒,薛涵宇,何榮銘 |
| 技術領域 | 材料化工,光電光學 |
 專利摘要(中) |
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| 藉由分可分解性之團聯共聚物，聚苯乙烯-b-聚(L-乳酸)(PS-PLLA)，的自組裝與後續的PLLA團塊水解製得具有五角三八面體奈米通道(gyroid nanochannel)的奈米多孔聚合物。使用該奈米多孔PS作為模板進行溶液-凝膠反應得到具有位於PS主體內的SiO2五角三八面體奈米構造之良好定義的奈米混成材料。該PS主體被UV降解後會留下一高度多孔性五角三八面體網絡，產生了一具有極低折射率(可低至1.1)的單一成份材料。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 李馥如 |
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