搜尋專利授權區
關鍵字
選單
專利授權區


專利授權區
專利名稱(中) 三維負折射結構及其製造方法
專利名稱(英) THREE-DIMENSIONAL NEGATIVE REFRACTION STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF
專利家族 中華民國:I659226
美國:US 2018-0210112-A1(公開號)
專利權人 國立清華大學 100%
發明人 葉庭佐,黃宗鈺,嚴大任
技術領域 光電光學,材料化工,通信傳輸
專利摘要(中)
The invention provides a three-dimensional negative refraction structure and a manufacturing method thereof. The three-dimensional negative refraction structure includes at least one metal shell. The at least one metal shell is embedded in a substrate or disposed on the substrate. A shape of the at least one metal shell is a three-dimensional symmetrical shape.
聯絡資訊
承辦人姓名 蔡昀臻
承辦人電話 03-5715131 #31036
承辦人Email yunchen@mx.nthu.edu.tw
我有興趣 BACK