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| 專利名稱(中) | 奈米多孔性高分子薄膜製備方法及奈米多孔性薄膜製備方法 |
| 專利名稱(英) | METHOD FOR FABRICATING NANOPOROUS POLYMER THIN FILM AND METHOD FOR FABRICATING NANOPOROUS THIN FILM |
| 專利家族 |
中華民國：I663198 美國：11,059,205 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100.00% |
| 發明人 | 簡佑丞,孟哈,希蘇翰,何榮銘 |
| 技術領域 | 材料化工 |
 專利摘要(中) |
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| 本發明提供一種奈米多孔性高分子薄膜製備方法，包含以下步驟。提供高分子薄膜，將高分子溶液塗於基材上形成高分子薄膜，高分子溶液包含高分子；提供膨潤退火作業，使蒸氣室內含呈蒸氣狀態之一第一溶劑，將高分子薄膜置於蒸氣室中使高分子薄膜膨潤後並持續置於蒸氣室中進行退火以形成膨潤高分子薄膜，膨潤高分子薄膜包含高分子及第一溶劑；提供快速降溫作業，將膨潤高分子薄膜快速降溫以使第一溶劑結晶；以及提供第一溶劑去除作業，利用第二溶劑移除第一溶劑以取得奈米多孔性高分子薄膜。藉此具有製程簡單且兼具經濟效益。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 李馥如 |
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