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| 專利名稱(中) | 產氫裝置 |
| 專利名稱(英) | HYDROGEN GENERATING DEVICE |
| 專利家族 |
中華民國：I615352 美國：9,884,305 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 塗妙華,傅詩貽,王學聖,潘欽,曾繁根 |
| 技術領域 | 材料化工,能源科技 |
 專利摘要(中) |
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| 一種產氫裝置，其中：第一基板包括位於其第一側的液體儲槽與第一氣體儲槽，且第一基板自液體儲槽至第一氣體儲槽依序包括第一液體擴散區、第二液體擴散區及漸擴式流道區。第一液體擴散區與第二液體擴散區分別具有多個液體擴散結構，且漸擴式流道區具有多個漸擴式流道。層板覆蓋第一基板的第一側，且包括與液體儲槽連通的液體進料入口。第二基板的第一側覆蓋第一基板的第二側，且包括位於第一側的第二氣體儲槽與氣體反應流道。觸媒配置於氣體反應流道中，且加熱器配置於第二基板的第二側上。 |
 聯絡資訊 |
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|---|---|
| 承辦人姓名 | 楊美茹 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #62305 |
| 承辦人Email | mjyang2@mx.nthu.edu.tw |
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