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| 專利名稱(中) | 逐層去除石墨烯的方法 |
| 專利名稱(英) | LAYER BY LAYER REMOVAL OF GRAPHENE LAYERS |
| 專利家族 |
中華民國：I531532 美國：9,183,971 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100.00% |
| 發明人 | 許瑋仁,鄧博元,邱博文,陳宛楨 |
| 技術領域 | 材料化工,光電光學,電子電機 |
 專利摘要(中) |
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| 一種逐層去除石墨烯的方法，所述方法包括：設置一單層或多層石墨烯於一熱源上、放置石墨烯以及熱源於一含有臭氧的密閉腔體內，以及利用雷射去除目標區域的石墨烯。此種去除石墨烯的方法可以在低溫的條件下，由雷射光精確控制逐層去除石墨烯。另外，還可選擇性的控制或調整所述熱源、雷射以及具有強氧化力的臭氧以去除石墨烯。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 李曉琪 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #31061 |
| 承辦人Email | hsiaochi@mx.nthu.edu.tw |
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