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| 專利名稱(中) | 穩定性佳的量子點及其製作方法 |
| 專利名稱(英) | Quantum dot with excellent stability and method for making the same |
| 專利家族 |
中華民國：I741954 大陸：CN114958334A(公開號) 美國：US11685861B2 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 陳學仕,葉常偉 |
| 技術領域 | 光電光學 |
 專利摘要(中) |
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| 一種穩定性佳的量子點，其包括一由M1C1之一第一化學式所構成的M1C1核，及複數由M2C2之一第二化學式所構成的M2C2內殼。M1C1核包括一具有一包括複數晶面且皆為非氧化晶面的第一族群晶面，與一包括複數晶面皆為氧化晶面的第二族群晶面的表面。各M2C2內殼分別對應成長在M1C1核的第一族群晶面的各晶面上。M1是至少一選自由下列所構成之群組的元素：Al、Ga，及In，且C1是至少一選自由下列所構成之群組的元素：P，及As。M2是至少一選自由下列所構成之群組的元素：Zn、Pb、Ag、Cu、Mn、Cd，及Mg，且C2是至少一選自由下列所構成之群組的元素：S、Se、O、F、Cl、Br、I，及Te。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 楊美茹 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #62305 |
| 承辦人Email | mjyang2@mx.nthu.edu.tw |
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