搜尋專利授權區
關鍵字
選單
智財技轉組簡介
人員執掌
技術移轉申請
專利授權區
專利提案申請
專利授權區


專利授權區
專利名稱(中) 化學氣相沈積生成石墨烯之方法
專利名稱(英) CHEMICAL VAPOR DEPOSITION OF GRAPHENE ON DIELECTRICS
專利家族 中華民國：I434949
美國：8,871,302
專利權人 國立清華大學 100.00%
發明人 鄧博元,林永昌,邱博文
技術領域 材料化工,電子電機
專利摘要(中)
本發明提供一種生成石墨烯之方法，能將單層或多層石墨烯直接生成於介電材質上。此方法包括以下步驟：將一介電材質及一金屬設置於一反應器；通入一反應氣體至反應器，且反應氣體經加熱裂解；以及直接沈積一薄膜於介電材質之一表面上。其中，此方法所成長之石墨烯具有高品質低缺陷的特性，免除蝕刻與轉移的步驟，極具潛力整合於生醫、電子、光電元件之應用。
聯絡資訊
承辦人姓名 李曉琪
承辦人電話 03-5715131 #31061
承辦人Email hsiaochi@mx.nthu.edu.tw
我有興趣 BACK