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| 專利名稱(中) | 適用於大面積曝光之拼接式雷射干涉微影設備 |
| 專利名稱(英) | LASER INTERFERENCE LITHOGRAPHY APPARATUS CAPABLE OF STITCHING SMALL EXPOSED AREAS INTO LARGE EXPOSED AREA |
| 專利家族 |
中華民國：I401541 美國：US 8,400,616 B2 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100% |
| 發明人 | 傅建中 |
| 技術領域 | 光電光學 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 劉千綺 |
| 承辦人電話 | 03-571-5131 #31181 |
| 承辦人Email | chienchi@mx.nthu.edu.tw |
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