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| 專利名稱(中) | 三維負折射結構及其製造方法 |
| 專利名稱(英) | THREE-DIMENSIONAL NEGATIVE REFRACTION STRUCTURE AND MANUFACTURING METHOD THEREOF |
| 專利家族 |
中華民國：I659226 |
| 專利權人 | 國立清華大學 100.00% |
| 發明人 | 葉庭佐,黃宗鈺,嚴大任 |
| 技術領域 | 材料化工,通信傳輸,光電光學 |
 專利摘要(中) |
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| 本發明提供一種三維負折射結構及其製造方法。三維負折射結構包括至少一金屬殼。至少一金屬殼嵌入在基底中，或設置在基底上。至少一金屬殼的形狀為立體對稱的形狀。 |
 聯絡資訊 |
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| 承辦人姓名 | 楊美茹 |
| 承辦人電話 | 03-5715131 #62305 |
| 承辦人Email | mjyang2@mx.nthu.edu.tw |
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